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超大规模集成电路先进光刻理论与应用
名       称：

超大规模集成电路先进光刻理论与应用 

作       者：

韦亚一 

出  版 社：

科学出版社 

  I S B N：

9787030482686 

出版日期：

2016年06月 

定价：

￥260.00

售价：

￥104.00

VIP价：

￥98.80

团购价：

￥104.00

优惠活动：

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