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美国专利申请撰写及审查处理策略（第二版）
名       称：

美国专利申请撰写及审查处理策略（第二版） 

作       者：

Benjamin H. Hauptman(本杰明.霍普曼) 

出  版 社：

知识产权出版社 

  I S B N：

9787513066976 

出版日期：

2020年01月 

定价：

￥120.00

售价：

￥48.00

VIP价：

￥45.60

团购价：

￥38.40

优惠活动：

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