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半导体干法刻蚀技术：原子层工艺
名       称：

半导体干法刻蚀技术：原子层工艺 

作       者：

(美) 索斯藤·莱尔 

出  版 社：

机械工业出版社 

  I S B N：

9787111734260 

出版日期：

2023年10月 

定价：

￥119.00

售价：

￥47.60

VIP价：

￥45.20

团购价：

￥38.10

优惠活动：

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