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美国专利申请撰写及审查处理策略（第二版）
作       者:

Benjamin H. Hauptman(本杰明.霍普曼) 

出  版 社:

知识产权出版社 

  I S B N:

9787513066976 

出版日期:

2020年01月 

定       价:

￥120.00

售       价:

￥96.00

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